产品用途：
本真空钼丝炉/钼片炉广泛应用于各大高校院校，科研单位及生产企业在真空或保护气氛下对材料进行烧结处理。立式结构，适用于金属材料在高真空，高温条件下进行退火，钎焊，烧结，除气处理，同时也适用于石英脱羟处理。
产品特点：
本真空钼丝片/钼片炉由炉体，真空系统及电气控制系统等组成。炉盖，炉体及炉底均采用双层水冷结构，炉壳外表温度不超过50℃。测温采用S型/钨铼热电偶，保证测温精度。真空系统采用二级泵或三级泵，电器元件均为国内外知名品牌，所用程序仪表，用户可自行设定程序，自动完成烧结。
产品选件：
高真空系统，无纸记录仪，PLC控制等。
技术参数：
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型号
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名称
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额定功率
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额定温度
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工作区尺寸
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极限真空度
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SML—1200
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真空钼丝炉
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以实际为准
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1300℃
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Φ80×80mm
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5×10-3Pa
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SML—1500
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真空钼丝炉
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以实际为准
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1500℃
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Φ100×100mm
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5×10-3Pa
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SML—1600
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真空钼丝炉
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以实际为准
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1600℃
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Φ200×200mm
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5×10-3Pa
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SML—1600
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真空钼丝炉
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以实际为准
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1600℃
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Φ300×350mm
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5×10-3Pa
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